​A股“新寵”?26隻核心優質的第三代半導體概念股(名單)一覽

早盤

三大指數集體高開,滬指高開0.48%,深成指高開0.63%,創業板指高開1.24%,第三代半導體、風電、醫療器械等板塊漲幅居前。

A股“新寵”

我國將大力發展第三代半導體,將其寫入“十四五”計劃草案。消息一出,第三代半導體產業頓時成為炙手可熱的半導體寵兒。

什麼是第三代半導體

第三代半導體是以碳化矽SiC、氮化鎵GaN為主的寬禁帶半導體材料,具有高擊穿電場、高飽和電子速度、高熱導率、高電子密度、高遷移率、可承受大功率等特點。

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名單如下:

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應用

第三代半導體材料廣泛用於制作高溫、高頻、大功率和抗輻射電子器件,應用於半導體照明、5G通信、衛星通信、光通信、電力電子、航空航天等領域。第三代半導體材料已被認為是當今電子產業發展的新動力。

碳化矽(SiC)(第三代)具有高臨界磁場、高電子飽和速度與極高熱導率等特點,使得其器件適用於高頻高溫的應用場景,相較於矽器件(第一代),可以顯著降低開關損耗。因此,SiC可以制造高耐壓、大功率電力電子器件如MOSFET、IGBT、SBD等,用於智能電網、新能源汽車等行業。與矽元器件(第一代)相比,氮化鎵(GaN)(第三代)具有高臨界磁場、高電子飽和速度與極高的電子遷移率的特點,是超高頻器件的極佳選擇,適用於5G通信、微波射頻等領域的應用。

第三代半導體材料具有抗高溫、高功率、高壓、高頻以及高輻射等特性,相比第一代矽(Si)基半導體可以降低50%以上的能量損失,同時使裝備體積減小75%以上。

第三代半導體屬於後摩爾定律概念,制程和設備要求相對不高,難點在於第三代半導體材料的制備,同時在設計上要有優勢

第三代半導體現狀

由於制造設備、制造工藝以及成本的劣勢,多年來第三代半導體材料隻是在小范圍內應用,無法挑戰Si基半導體的統治地位。

目前碳化矽(SiC)襯底技術相對簡單,國內已實現4英寸量產,6英寸的研發也已經完成。

氮化鎵(GaN)制備技術仍有待提升,國內企業目前可以小批量生產2英寸襯底,具備瞭4英寸襯底生產能力,並開發出6英寸樣品。

數據顯示,到2025年,第三代半導體市場的增長將從320億美元增長至434億美元,復合年增長率為6.3%。

由於第三代半導體材料及應用產業發明並實用於本世紀初年,各國的研究和水平相差不遠,國內產業界和專傢認為第三代半導體材料成瞭我們擺脫集成電路(芯片)被動局面,實現芯片技術追趕和超車的良機。

我國第三代半導體創新發展的時機已經成熟,處於重要窗口期。但目前仍面臨多重緊迫性。其中,光電子材料和器件領域與國際先進水平相比處於並跑狀態;功率半導體材料和器件、射頻材料和器件與國際先進水平相比處於跟跑狀態。

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