1959年光刻膠被發明，此後其便作為半導體制造材料發揮著重要作用，是精細化工領域技術壁壘最高的材料。長期以來，光刻膠市場幾乎被日本企業所壟斷，占比高達72%。而我國雖也有在光刻膠行業發力，但因為起步晚、面對高技術壁壘等問題，在高端光刻機領域難以突破。
據中國產業信息網公佈的數據顯示，我國在低端PCB光刻膠的產值占比高達94.4%。而在高端半導體光刻膠的產值卻隻有1.6%。為瞭打破海外壟斷，上海新陽作為我國光刻膠巨頭，不斷向該領域發起沖擊。據上海新陽最新披露的定增預案顯示，其將募集最高15億元的資金用於項目建設。
上海新陽將拿出7.32億元募集資金，用於集成電路制造以及高端光刻膠研發與產業化，其開發目標為在集成電路制造中ArF幹法工藝用光刻膠，以及3D NAND臺階刻蝕用KrF厚膜光刻膠產品。若是上海新陽進展順利，其將在ArF幹法光刻膠與KrF厚膜光刻膠兩大領域掌握規模化的生產技術。
目前，我國90到14nm高端芯片制造所需的ArF光刻膠完全依賴進口，並且，多國禁止ArF光刻膠技術對我國進行輸入。這顯然於我國芯片制造安全不利。為改變這一困局，實現廣建材料自力更生，上海新陽從2017年，便對光刻膠研發項目進行瞭籌劃。
如今上海新陽已經建起瞭優秀的研發團隊，並在光刻膠巨頭企業有著超20年經驗的專傢人才。光刻膠研發與檢測高端設備、大量的資金投入等，自是不必多說。經過不斷努力，上海新陽的ArF幹法光刻膠與KrF厚膜光刻膠已經實現瞭實驗室研發階段，為其本次項目打下瞭不錯的基礎。
根據項目計劃，KrF厚膜光刻膠遊與ArF光刻膠則分別將於2021年與2022年，實現少量銷售。而二者的量產則分別在2022與2023年實現，十分令人期待。當前，上海新陽已經走在我國光刻膠領域的前列，上海微電子、中芯國際等都是其重要客戶。
此外，上海新陽還在籌備合肥第二生產基地建設，據悉，該項目投資7億元，預計在2022年實現投產。該項目圍繞芯片制程使用的關鍵工藝材料開展，進行研發、生產與銷售三項活動。從上海新陽的種種規劃來看，國產高端光刻膠有望實現突破。
文/BU 審核/有魚