目前，全球正面臨一場“缺芯”危機，受汽車芯片短缺的影響，福特、大眾、豐田等多傢車企宣佈減產或停產。
然而屋漏偏逢連夜雨，據《證券時報》消息，日本東北213強震致使日本企業主導的光刻膠供應告急。占據全球光刻膠市場超20%的日本信越，更是宣佈關閉廠區。
作為半導體的關鍵耗材，臺積電、三星等晶圓廠在芯片制造過程中，都需要用到光刻膠。如今，光刻膠供應告急的狀況，恐怕會使全球芯片短缺境況更為嚴峻。
光刻膠重要性
光刻膠是一種對光敏感的混合液體，將光刻膠塗佈在矽片之上，通過化學反應，經過曝光、顯影等光刻工序後，設計在掩膜版上的圖形便可轉移至待加工基片上。
據SEMI公佈的一份數據顯示，在2018年全球半導體制造材料市場結構中，光刻膠的占比為5.24%，是半導體核心耗材。
光刻膠同晶圓良品率與品質息息相關。同時，光刻膠也對芯片節點的推進有重要影響，有業界人士分析，光刻膠瓶頸會阻礙摩爾定律延續。
光刻膠競爭格局
光刻機門檻極高，有著“電子化學產業的皇冠明珠”之稱，是精細化工行業中，技術壁壘最高的材料。
在全球半導體光刻膠市場，日本企業的壟斷十分嚴重，而且越是高端的市場，這一境況就越發明顯。
據悉，在光刻膠市場中，日本企業的占比高達80%，信越、TOK、住友化學等，都是這一領域的巨頭。
因此，日本此次強震的發生，才會對光刻膠市場產生如此大的動蕩。
中國光刻膠市場
目前，中國高端光刻膠國產化程度低，技術還有明顯的落後。不過，國產替代是光刻膠發展的大趨勢，已有不少中國企業正奮力追趕。
在門檻較低較低的PCB光刻膠市場中，國產化率已經達到50%。在LCD光刻膠領域，國產化率已經能提升至5%。在技術壁壘最高的半導體光刻機行業，我國還面臨著巨大的挑戰。想要實現國產芯片自主可控，必須打破海外光刻膠壟斷，加速國產替代。
國產替代迎來機遇
日本的這次光刻膠供應危機，恰好給瞭國產替代帶來瞭一次機會。
當前，我國已經湧現出南大光電、晶瑞股份、上海新陽等光刻膠領頭企業，填補我國空白。
2020年，在南大光電的不斷努力下，其研發的ArF（193nm）光刻膠通過客戶使用認證，良品率結果符合要求。
這是我國首支通過產品驗證的國產ArF光刻膠，在90-14nm，甚至是7nm技術節點上，ArF光刻膠都可以應用。這代表我國在高端光刻膠領域又向前瞭一步。
同樣在2020年，晶瑞股份也傳來喜訊。據悉，晶瑞股份KrF（248nm）光刻膠進入客戶測試階段。這一年晶瑞股份還啟動光刻機采購計劃。
晶瑞股份斥資1102.5萬美元從SK海力士手中，收購的二手ASML光刻機設備如今已經到貨。該光刻機最高可研發28nm光刻膠，將為晶瑞股份的ArF光刻膠、ArFi光刻膠項目助力。
同樣是我國光刻膠領頭羊企業的上海新陽，也在前段時間成功采購三臺二手ASML光刻機，用作ArF幹法光刻膠研發。
而且，上海新陽斥資7.32億元的推動集成電路制造用，高端光刻膠研發與產業化項目，也在有序推動中。ArF光刻膠與KrF光刻膠，是上海新陽這一項目的攻克方向。
據前瞻產業研究院的一份數據顯示，當前我國KrF光刻膠與ArF光刻膠國產化率都隻有1%。但在如此多企業的共同努力下，我國高端光刻膠有望迎來突破。
文/BU審核/子揚 校正/知秋